جهاز محاكاة مصدر التلوث من سلسلة MR (جهاز ديناميكي محمول لتوزيع الغاز) هو نظام تحضير غاز ذكي وعالي الدقة طورته شركة Shenzhen National Instrument Technology Co., Ltd. يتميز بشاشة لمس سعوية مقاس 7 بوصات وبرنامج تحكم خاص مدمج يمكّن من توزيع الغاز والسائل المختلط.
يعتمد قسم الغاز على وحدة تحكم تدفق الكتلة المستوردة حرارياً وعالية الدقة لقيادة قنوات غاز متعددة بنسب مختلفة، لذلك يمكن إنتاج تركيزات الغاز ديناميكيًا بدون تسخين وبدء تشغيل فوري. يستخدم قسم السائل مضخة حقنة عالية الدقة وإبرة حقن ذات نطاق صغير، مع إشارات رقمية عالمية Modbus485 تضمن دقة الإشارة.
يتم تطبيق الجهاز لاختبار الخطية والدقة والتكرار والمؤشرات الفنية الأخرى لأجهزة تحليل الغاز أو أجهزة الكشف عن الغاز. إنه أداة اختبار أساسية لأعمال التحقق والصيانة والإصلاح، كما أنه يعمل كمولد غاز بتركيز ثابت.
| المعلمة | المواصفات |
|---|---|
| دقة التدفق | ≤ ±1% F.S |
| خطية التدفق | ±0.3% F.S |
| تكرار التدفق | ±0.2% F.S |
| وقت الاستجابة | ≤ 50 مللي ثانية (توزيع) |
| نسبة النطاق الفردي | 200:1 / 100:1 / 50:1 |
| أقصى نسبة خلط | 4000:1 / 2000:1 / 1000:1 / 500:1 |
| نطاق تدفق غاز التخفيف | 0-10 SLM / 0-5 SLM / 0-1 SLM / 0-500 SCCM / 0-10 SCCM (قابل للاختيار) |
| المعلمة | المواصفات |
|---|---|
| ضغط الإدخال | (0.2–11) MPa |
| ضغط التفاضل التشغيلي | 0.05–0.3 MPa |
| أقصى ضغط للنظام | < 1 MPa |
| درجة حرارة غرفة التبخير | 0–350 درجة مئوية |
| دقة التحكم في درجة الحرارة | ≤ 0.1 درجة مئوية |
| درجة حرارة البيئة التشغيلية | 5–45 درجة مئوية |
| الرطوبة النسبية | < 80% RH |
| المعلمة | المواصفات |
|---|---|
| مزود الطاقة | تيار متردد 220 فولت، 50±0.5 هرتز |
| الحد الأقصى للطاقة | 300 واط (تسخين إلى 350 درجة مئوية)؛ صمام لولبي بحد أقصى 24 واط |
| الأبعاد (الطول × الارتفاع × العمق) | 483 مم × 300 مم × 452 مم |
| الوزن | 32 كجم |
يستخدم الجهاز طريقة الحجم الثابت لتحضير الغاز: يتم حقن السائل المستهدف (الكاشف أو المذيب) عبر منفذ حقن في حاوية محكمة الإغلاق (غرفة الخلط) بينما يتم إدخال غاز التخفيف. بعد الخلط الشامل، يتم قياس درجة حرارة وضغط الغاز المختلط. ثم يتم حساب تركيز الغاز القياسي من الكمية المحقونة، وحجم الغرفة، ودرجة الحرارة، والضغط.
الصيغ الرئيسية:
كثافة السائل: جم/مل
سرعة تغذية مضخة الحقنة: مل/دقيقة (بناءً على حجم السائل)
معدل تغذية الكتلة لمضخة الحقنة = الكثافة × سرعة التغذية، أي جم/مل × مل/دقيقة = جم/دقيقة
تركيز الخرج = معدل تغذية الكتلة ÷ تدفق التخفيف، أي جم/دقيقة ÷ م³/دقيقة = جم/م³
يستخدم الجهاز على نطاق واسع في المصانع والمعاهد البحثية والمختبرات لمعايرة واختبار أجهزة تحليل الغاز وكواشف الغاز وأجهزة استشعار الغاز، وكذلك لتحضير عينات الغاز القياسية.
شركة Shenzhen National Instrument Technology Co., Ltd.
الشركة المصنعة لجهاز محاكاة مصدر التلوث من سلسلة MR